产品系列
  • 磁控溅射系列靶材
  各种磁控溅射纯金属及合金靶材,纯度高、密度高、组织结构优良、使用寿命长。拥有两项国家授权专利:采用最先进工艺生产的纯金属Cr靶(专利号:ZL 93 1 01604.5)和科学先进新颖的靶材结构设计(专利号:ZL 99 2 43973.6)。产品规格齐全,包括圆形、环形、矩形和管形等各种形状,尺寸可根据用户的要求定制。生产的靶材广泛应用于大面积装饰玻璃镀膜、耐磨镀膜、电子行业CD、VCD等各类光碟以及各种磁碟镀膜等。产品市场占有率高,并远销美国、日本及台湾等国家和地区。

靶材名称 元素符号 纯度(%) 密度(g/cm3) 熔点(℃)
铬靶 Cr 99.95 7.18 1875
银靶 Ag 99.99 10.5 960
金靶 Au 99.99 19.3 1064
钽靶 Ta 99.99 16.6 2996
钴靶 Co 99.95 8.9 1495
硅靶 Si 99.999 2.33 1410
钨靶 W 99.9 19.6 3300
钼靶 Mo 99.9 10.3 2600
铌靶 Nb 99.9 8.57 2468
锆靶 Zr 99.9 6.50 1852
镍靶 Ni 99.95 8.9 1453
钛靶 Ti 99.5 4.50 1668
镍铬靶 NiCr 99.95 随成分变 随成分变
镍钒靶 NiV 99.95 随成分变 随成分变
钴铬靶 CoCr 99.95 随成分变 随成分变
钴镍铬靶 CoNiCr 99.95 随成分变 随成分变
钴铬钽靶 CoCrTa 99.95 随成分变 随成分变
钴镍钽靶 CoNiTa 99.95 随成分变 随成分变
铁镍硅靶 FeNiSi 99.9 随成分变 随成分变
铬硅靶 CrSi 99.9 随成分变 随成分变
不锈钢靶 FeNiCr 316L 7.8 1425
还可以根据用户要求生产各种纯金属及合金靶材
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